Schwerpunkte in Band 2 bilden das Aufdampfen im Hochvakuum, das Ionenplattieren, die Kathodenzerst�ubung, teilchengest�tzte Verfahren, die Erzeugung von Mikrostrukturen, Plasmabehandlungsverfahren und die Abscheidung aus der Gasphase (CVD).
Edited by:
Gerard Kienel, Klaus Röll, Gerard Kienglishel Imprint: Springer-Verlag Berlin and Heidelberg GmbH & Co. K Country of Publication: Germany Edition: Softcover reprint of the original 1st ed. 1995 Dimensions:
Height: 244mm,
Width: 170mm,
Spine: 26mm
Weight: 854g ISBN:9783642633980 ISBN 10: 3642633986 Series:VDI-Buch Pages: 481 Publication Date:14 October 2012 Audience:
Professional and scholarly
,
Undergraduate
Format:Paperback Publisher's Status: Active